UHMW Полиэтилен пленкасы болоттун сүрүлүүгө туруктуулугунан ашып, өтө жогорку тырышууга туруштук берет.Кеңири химиялык каршылык жана сүрүлүүнүн төмөн коэффициенти менен бирге UHMW көптөгөн оор тейлөө колдонмолору үчүн өтө ар тараптуу инженердик материал кылат.Полимер® Fluoropolymer сыяктуу тайгак, бирок супер абразияга жана эскирүүгө туруктуу.UHMW Полимерлери кадимки жогорку тыгыздыктагы полиэтилен чайырларынан орточо 10 эсе молекулалык салмакка ээ.Жогорку молекулярдык салмак UHMW Полимерлерине өзгөчөлүктөрдүн уникалдуу айкалышын берет Колдонмолору: Ичүүчү суу үчүн ички жана сырткы беттер, химиялык, күйүүчү май жана гидравликалык шлангдар, лыжа жана кар тактайлары үчүн астыңкы беттер, сүрүлүүнү жана эскирүүнү азайтуу үчүн чуңкурлар үчүн каптамалар.
Кристалдашуу механизмдерин аныктоо үчүн эрүү жана кристаллдашуу процессинде 30 секунд убакыттын ажыратылышы менен жогорку бир октуу ориентацияга ээ болгон ультра жогорку молекулярдык полиэтилендин (UHMWPE) коммерциялык плёнкасы изилденген.
Изотроптук кристаллдашуу эритинди 140◦C же андан жогору ысытылганда пайда болоору аныкталган.Багытталган кристаллдашуу, эритме 138◦C же андан төмөн кармалса болот.Оптималдуу эритин күйдүрүү температурасы 136◦C болуп көрүнөт.Бул температурада оригиналдуу пленканын жарым кристаллдык наноструктурасы толугу менен өчүрүлөт, ал эми эритиндилердин ориентациялык эс тутуму сакталат.Мындан тышкары, изотермикалык кристаллдашуу 110◦C жана андан жогору температурада башталбайт.105◦C температурада багытталган кристаллдашуу 2,5 мүнөттөн кийин башталат.Калыңдыгы акырындык менен азаюучу ламеллалар 20 мүнөттүк изотермиялык мезгилде өсөт.
Төмөнкү изотермиялык эмес кристаллдашуу учурунда (муздатуу ылдамдыгы: 20◦С/мин) кийинки кошуна корреляциясы бар майда кристаллдык блоктор пайда болот.Ошентип, кристаллдашуу механизмдери изотермикалык кристаллдашуу башталышы үчүн талап кылынган олуттуу муздатуудан башка, мурда изилденген, чынжырдын чырмалыштуу тыгыздыгы жетиштүү башка полиэтилендик материалдарда табылган механизмдерге окшош.
Көп өлчөмдүү CDF аркылуу реалдуу мейкиндикте маалыматтарды талдоо жүргүзүлдү.Материалды эрүү учурунда кристаллдык катмарлардын орточо калыңдыгы туруктуу бойдон калат (27 нм), ал эми узак мезгил 60 нмден 140 нмге чейин күчөйт.Талдоо көрсөткөндөй, баштапкы наноструктурада да кийинки кошуна корреляция үстөмдүк кылат, бул ламеланын туруктуулугу анын кошуналарына чейинки аралыкка жараша монотондуу түрдө жогорулап жатканын билдирет.Түпнуска түзүлүшү кеңейтилген ламеллаларды көрсөтсө да, кайра кристаллдашкан домендер була багытындагы s3 боюнча алардын ортосундагы аралыктан кенен эмес.
Колдонмолорго конвейердин каптоосу, жетектөөчү рельстер, чубалгылар, чынжыр багыттоочулары, тартма жылмалары жана ызы-чууну азайтуу кирет.Мыкты абразия жана эскирүү каршылык.
Посттун убактысы: 17-июнь-2017